华为正计划在上海建不使用美国技术的芯片制造工厂

 11     月       2       日消息,据国外媒体报道,华为正计划在上海建造不使用美国技术的芯片制造工厂。  

    了解该项目的人知情称,华为没有制造芯片的经验,该厂将由合作伙伴上海集成电路研发中心运营。    

    知情人士称,预计该厂将从低端的    45     纳米起步。华为计划在       2021       年底之前制造用于“物联网”设备的       28       纳米芯片,在       2022       年底之前生产用于       5G       电信设备的       20       纳米芯片。  

    据官网介绍,上海集成电路研发中心有限公司(    ICRD     )成立于       2002       年,       ICRD       由中国集成电路相关企业集团和高校联合投资组建而成。  

    上海集成电路研发中心位于上海市张江高科技园区,地理位置毗邻华力微电子和中芯国际。    ICRD     建有中国       12       英寸开放式集成电路先进工艺研发和装备材料试验平台,净化面积超过       3000       平方米,研发环境及管理系统和大生产线完全匹配,可实现硅片无沾污进出和工艺流程无缝衔接,加快了技术研发和验证速度。    


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