着眼于现代计算的趋势，由英特尔公司联合创始人戈登·摩尔（Gordon Moore）于1975年制定的摩尔定律认为，集成电路中的晶体管数量大约每两年翻一番。

在过去的45年中，这种预测或多或少都成立了，但是随着我们无法生存的设备越来越小，制造越来越细的电路的能力正在冲击技术壁垒。研究人员试图找到最好的，最经济的方法来蚀刻宽度小于10纳米（大约是头发的千分之一）的电子路径。

宾汉姆顿大学的一项研究项目最近获得了美国国家科学基金会（NSF）的三年期资助，共计609,436美元，用于研究生产这些微电路的新方法。

系统科学与工业工程学系助理教授贾登（主要研究员）将领导该研究。以及Thomas J. Watson工程与应用科学学院机械工程系的Changhong Ke教授（共同研究员）。自邓小平于2017年到达宾厄姆顿以来，两人一直是合作者。

他们的计划是利用与原子力显微镜相同的技术，该技术使用机械探针扫描样品至纳米级（比光学显微镜小1,000倍），以“感觉”样品并将数据转换为图像。

邓和柯不会使用“感觉”表面，而是使用约有3.1纳米宽的碳纳米管（由有史以来最强的物质之一制成），将所需的电路图案蚀刻到材料上。

如果纳米制造技术被证明是成功的，它将比同类方法便宜，效率更高。一家荷兰公司可以通过极紫外光刻技术来制造具有7纳米及以下纳米电路的中央处理器（CPU），但它们的设备每套成本为1.2亿美元。使用氦离子束的机器可以低于10纳米，但它们也非常昂贵。

相比之下，原子力显微镜的价格在100,000美元至200,000美元之间，而电路生产的修改成本可能不高。

邓说：“与其他现有的纳米图案化设备或技术（例如基于激光或基于电子束的设置）相比，这种设置的成本相对较低。”

通过在纳米制造技术中增加电场，热加热和机械振动，邓和柯希望获得更广泛的潜在应用，并减少后期生产过程。

柯说：“通过使用这些纳米管，它的尖端非常锋利，还可以抵抗磨损。” “通常，如果您的笔尖很锋利并且与表面接触，则笔尖会变钝，这将大大降低图案分辨率和效率。”

作为沃森学院纳米力学实验室的负责人，他看到，如果邓小平和邓小平的研究取得成功，他和邓小平将会取得的成就：“我们的技术可以打破5纳米的壁垒。这将为半导体和电子工业带来重大突破。

这项研究标志着邓小平获得了美国国家科学基金会（NSF）的第一个奖项-科学界的荣誉徽章-他感谢Ke，屈臣氏学院和大学的支持。

他说：“这对我来说是个好消息，我很高兴能为这个项目提供资金。” “希望我们会做一些好的研究，并在将来获得更多的资金。”

Deng和Ke的研究是“基于多能量辅助的基于Ultrasharp探针的纳米制造，用于高分辨率和高效纳米图案化”（NSF资助号2006127）。